Mga Tukoy na Application ng Plasma Cleaners

Ang mga plasma cleaning/etching machine ay bumubuo ng plasma sa pamamagitan ng paglalagay ng dalawang electrodes sa isang selyadong lalagyan upang lumikha ng electric field. Ang isang vacuum pump ay ginagamit upang mapanatili ang isang tiyak na antas ng vacuum. Habang ang gas ay nagiging bihira, ang distansya sa pagitan ng mga molekula at ang libreng paggalaw ng mga molekula o mga ion ay tumataas din. Sa ilalim ng impluwensya ng electric field, ang mga ion na ito ay nagbanggaan at bumubuo ng plasma. Ang mga ion na ito ay lubos na reaktibo, na may sapat na enerhiya upang masira ang halos lahat ng mga bono ng kemikal, na nag-uudyok ng mga reaksiyong kemikal sa anumang nakalantad na ibabaw. Ang iba't ibang mga plasma ng gas ay may iba't ibang mga katangian ng kemikal. Halimbawa, ang oxygen plasma ay lubos na nag-o-oxidize, na may kakayahang mag-oxidize ng photoresist upang makagawa ng gas, kaya nakakamit ang isang epekto sa paglilinis. Ang corrosive gas plasma ay may mahusay na anisotropy, na nakakatugon sa mga kinakailangan ng pag-ukit. Ang paggamot sa plasma ay nagdudulot ng glow, kaya tinawag ang glow discharge.
Ang mekanismo ng paglilinis ng plasma ay pangunahing nakasalalay sa "pag-activate" ng mga aktibong particle sa plasma upang alisin ang mga mantsa sa ibabaw. Sa mga tuntunin ng mekanismo ng reaksyon, ang paglilinis ng plasma sa pangkalahatan ay nagsasangkot ng sumusunod na proseso: ang mga inorganic na gas ay nasasabik sa isang estado ng plasma; ang mga gaseous substance ay na-adsorbed sa solid surface; ang mga adsorbed na grupo ay tumutugon sa mga molekula sa solidong ibabaw upang bumuo ng mga molekula ng produkto; ang mga molecule ng produkto ay nabubulok sa gas phase; at ang mga residue ng reaksyon ay tinanggal mula sa ibabaw.

Ang pinakamahalagang tampok ng teknolohiya sa paglilinis ng plasma ay ang paggagamot nito sa anumang uri ng substrate, kabilang ang mga metal, semiconductors, oxide, at karamihan sa mga polymer na materyales tulad ng polypropylene, polyester, polyimide, polyvinyl chloride, epoxy, at kahit polytetrafluoroethylene. Maaari nitong linisin ang buong ibabaw at mga partikular na lugar, pati na rin ang mga kumplikadong istruktura.